2024年 中国の溅射靶材(スパッタリングターゲット）産業の市場現状と今後の発展展望：概訳
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更新日：2月1日
（2024年中国溅射靶材行业市场现状及未来发展前景、2024/5/15）
中商情報網ニュース：溅射靶材（スパッタリングターゲット）とは、磁控スパッタリングなどの成膜システムを用い、適切なプロセス条件の下でスパッタリングにより基板上に各種機能性薄膜を形成するためのスパッタリング源である。溅射靶材は、半導体集積回路、フラットパネルディスプレイ、太陽電池、情報ストレージ、低放射（Low-E）ガラスなどの分野で広く使用されており、国家が重点的に支援・奨励する産業である。
一、溅射靶材に関する報告
1, 溅射靶材の定義
溅射靶材（スパッタリングターゲット）とは、磁控溅射などの成膜システムを用い、適切なプロセス条件の下でスパッタリングにより基板上に各種機能性薄膜を形成するためのスパッタリング源を指す。
溅射靶材は主に靶坯（ターゲットブランク）と背板（バックプレート）で構成される。ターゲットブランクはスパッタリング材料の中核を成し、スパッタリング成膜の過程において高エネルギーのイオンビームが衝突する対象となる。ターゲットブランクがイオン衝撃を受けることで、その表面の原子が飛び出し、基板表面に堆積して薄膜を形成する。
バックプレートは、ターゲットブランクの固定・支持、熱伝導および導電の役割を担い、一般に金属材料で製造される。溅射靶材は専用のスパッタリング成膜装置に取り付けられ、スパッタリングを行う必要がある。これらの装置は高電圧かつ高真空の環境で動作するが、多くのターゲットブランクは柔らかく、脆性が高く、導電性や熱伝導性が低いため、直接装置に取り付けることが適さない。そのため、ターゲットブランクはバックプレートと一体化させる必要がある。
2. 溅射靶材の分類
溅射靶材は、専用のスパッタリング成膜装置と組み合わせて使用することが不可欠である。形状に基づく分類として、溅射靶材は平面靶（フラットターゲット）と旋转靶（ロータリーターゲット）に分けられる。また、バックプレートやバックチューブの有無によって、一体靶（モノリシックターゲット）と绑定靶（ボンディングターゲット）に分類される。
3, 溅射靶材の応用分野
溅射靶材は、各種薄膜の工業的製造における重要な材料であり、半導体集積回路、フラットパネルディスプレイ、太陽電池、情報記録媒体、低放射ガラスなどの分野に広く応用されている。
各応用分野において、溅射靶材の製造技術や製品性能に対する要求は異なる。半導体分野では高純度と均一性が求められ、フラットパネルディスプレイでは大面積かつ高耐久性が必要とされる。太陽電池においてはコストと変換効率のバランスが重視され、情報記録媒体では高精度な成膜が不可欠である。また、低放射ガラス分野では高い反射抑制効果と安定した光学特性が求められる。
このように、溅射靶材は先端産業における重要な基盤材料の一つであり、その市場規模と技術要求は今後も拡大・高度化していくと考えられる。
4, 中国における溅射靶材（スパッタリングターゲット）産業の発展過程
（1）萌芽期
中国の溅射靶材産業は、海外と比較して発展の開始が遅かった。1990年代、薄膜技術および薄膜材料の発展を促進するため、国家計画委員会（国家発展改革委員会の前身）、国家科学技術委員会（科学技術部の前身）、国家自然科学基金委員会、地方政府の関連部門が一連の政策を発表し、成膜技術および関連材料の発展を支援した。これにより、真空成膜、低温技術、圧力容器などの分野で一定の技術基盤が蓄積され、国内の溅射靶材企業の研究開発および産業化に向けた良好な条件が整えられた。
しかしながら、技術力の制約や、下流市場の発展が初期段階にあったことなどの要因により、中国の溅射靶材産業の成長は緩やかであった。大規模生産能力を有し、研究開発力の高い企業は少なく、溅射靶材の用途も中低価格帯の製品に限定されていた。
（2）高速発展期
21世紀に入り、中国のマクロ経済は高速成長期に突入した。テレビ、パソコン、スマートフォンなどの消費電子市場が急速に発展し、関連するエンドユーザー市場の規模が拡大したことにより、国内の溅射靶材企業および市場の成長が加速した。
長年の発展を経て、中国の溅射靶材企業は大きな進歩を遂げ、国産の高純度・高性能溅射靶材は継続的な自主研究開発を通じて重要技術の突破を実現した。さらに、生産規模を拡大し、技術開発・製品性能・生産規模・品質・ブランド力など、あらゆる面で市場競争力を着実に向上させた。これにより、溅射靶材業界が長らく海外大手メーカーに独占されてきた状況を打破することに成功した。
（3）安定成長期
近年、中国のフラットパネルディスプレイおよび半導体集積回路産業が急速に発展し、下流産業が次第に国内へとシフトしている。この影響により、国内の溅射靶材産業も急成長を遂げ、単なる規模拡大から輸入代替による構造的成長へと移行している。
現在、寧波江豊電子（KFMIC）、阿石創（Acetron）、有研新材（GRINM Advanced Materials）、隆華科技（Longhua）、先導薄膜（VTFM）、芜湖映日科技（Yingri）など競争力の高い国内靶材企業が、国内外の有名なフラットパネルディスプレイメーカーや半導体集積回路企業のサプライチェーンに参入している。これにより、海外メーカーの市場シェアに対する輸入代替が進み、一部の製品は輸出も実現した。さらに、国内の主要産業における上流の重要原材料の供給安全性と自主可控（自主制御）が確保されるようになった。
二、国際市場における溅射靶材産業の現状
1, 世界の溅射靶材市場規模
中商産業研究院のデータによると、2016年から2023年にかけて、世界の溅射靶材市場規模は113億ドルから258億ドルへと拡大し、年平均成長率（CAGR）は12.52%に達している。
今後、IoT、ビッグデータ、新型ディスプレイ、太陽電池、省エネガラスなどの新技術や新インフラの発展に伴い、溅射靶材のエンドユーザー市場はさらに拡大する見込みである。これにより、世界の溅射靶材市場は引き続き安定した成長を維持すると考えられる。
2, 世界の溅射靶材産業における競争構造
特許技術の先行優位性、強固な技術力、精密な生産管理、高品質な製品を背景に、アメリカ、日本、ヨーロッパなどの先進国および地域の大手溅射靶材メーカーが、世界の溅射靶材市場において高い市場シェアを占めている。
JX金属、Honeywell、トーソー、Praxairなどの大手多国籍企業は、設立が早く、歴史が長く、すでに成熟した産業基盤を有している。これらの企業は、金属の精製、靶材製造、スパッタリング成膜、最終製品の応用に至るまで、産業全体のバリューチェーンを包括している。
これらの企業は、先行優位性と技術研究開発の強みを活かし、産業の発展方向や技術革新を主導しており、溅射靶材分野において圧倒的な優位性を持つ。現在、これらの企業は世界市場の約80%を占めている。
さらに、三井金属、住友化学、Ulvac、世泰科（H.C.Starck）、Planseeなどの企業は、豊富な資金力、高度な技術力、長年の産業経験を有しており、それぞれの得意とする靶材分野で市場のリーダー的地位を確立している。
三、中国における溅射靶材産業の発展環境分析
（1）政策による指導が産業の発展を促進
高性能溅射靶材産業は、国家が重点的に支援・奨励する産業であり、国家産業政策がその発展に対して積極的な推進力となっている。現在、国務院、国家発展改革委員会（国家発改委）、工業情報化部（工信部）などの政府機関は、各種の政策文書を通じて、多層的・多角的・多分野にわたり高性能溅射靶材産業に対する指導を行い、産業全体のバリューチェーンにおける発展を支援している。
具体的には、以下のような政策が相次いで発表され、中国の高性能溅射靶材産業の発展を支援している。
《戦略的新興産業の投資拡大と新たな成長点・成長極の育成強化に関する指導意見》
《「十四五（第14次五カ年計画）」原材料産業発展計画》
《製造業の信頼性向上に関する実施意見》
《電子情報製造業2023-2024年成長安定化行動計画》
これらの政策により、溅射靶材産業に携わる企業の事業展開に対し、強力な支援と良好な発展環境が提供されている。
また、溅射靶材産業の発展促進、産業の革新能力向上、国際競争力の強化、伝統産業の改造および製品のアップグレードを推進するため、中国政府は近年、溅射靶材産業を支援・奨励する一連の政策を打ち出している。これにより、溅射靶材産業の発展に向けた良好な政策環境が整えられた。
以下に、主要な政策の具体的内容について示す。
（2）需要の拡大が応用分野を拡張
高性能溅射靶材産業の発展は、フラットパネルディスプレイ、半導体集積回路、新エネルギー電池、太陽光発電（PV）などの新興産業の市場需要や技術革新と密接に関連している。下流産業の継続的な発展と高度化に伴い、溅射靶材に求められる性能および技術要件もますます高まっている。
また、最終製品市場の拡大と高性能薄膜材料および磁控スパッタリング技術の急速な発展により、溅射靶材は高純度化、大型化、高密度化、高スパッタリング速度、高利用率といった方向へ急速に進化している。これにより、溅射靶材の総合的な性能はさらに向上し、従来の用途を超えて複合銅箔（CCL）、建築一体型太陽光発電（BIPV）、航空宇宙材料などの新たな応用分野へと拡張されつつある。
（3）技術革新が産業変革を促進
5G、半導体集積回路、インターネット、人工知能（AI）などの産業が急速に発展する中、「モノのインターネット（IoT）」の時代から、「あらゆるスクリーンがつながる」時代へと移行しつつあり、新型ディスプレイ技術は最も活発な技術革新分野の一つとなっている。
近年、電子光学、材料科学、機械工学などの関連分野で次々と技術革新が進み、OLED、MiniLED、MicroLEDといった新型ディスプレイ技術が競争的に発展している。さらに、8K超高精細ディスプレイ、3Dディスプレイ、フレキシブルディスプレイ、透明ディスプレイなどの技術も急速に進歩し、従来のディスプレイ端末の形態を覆しつつある。
四. 中国の溅射靶材産業の現状
1, 中国の溅射靶材市場規模
2018年から2022年にかけて、中国の溅射靶材市場規模は243億元から395億元へと拡大し、過去5年間の年平均成長率（CAGR）は12.91%となっている。
今後、ディスプレイパネルの生産拠点の移転、半導体の国産化加速、太陽光発電市場の活況といった要因により、高性能溅射靶材に対する需要は継続的に増加する見込みである。
中国の溅射靶材市場は極めて高い成長ポテンシャルを持ち、2024年には市場規模が476億元に達すると予測されている。
2, 中国における溅射靶材産業のサプライチェーン分析
溅射靶材産業のサプライチェーンは、金属精製、靶材製造、スパッタリング成膜、最終製品の応用といったプロセスで構成されている。
このうち、靶材製造は溅射靶材産業における最も重要なプロセスであり、溅射靶材の製品品質および性能指標が、最終製品の品質と安定性を直接決定する。
溅射靶材のサプライチェーンにおいて、上流の金属精製工程では、天然の金属に含まれる不純物を除去し、靶材製造工程の生産要件を満たす純度に精製する。
靶材製造工程では、精密かつ多岐にわたる加工プロセスが必要であり、さらに下流の応用分野ごとの性能要件やニーズに応じた特有の製造プロセスの設計が求められる。
スパッタリング成膜工程では、溅射靶材を専用のスパッタリング成膜装置に装着し、スパッタリングプロセスを実施することで、導電性、絶縁性、光導電性、圧電性、磁性、潤滑性、超伝導性、耐摩耗性、装飾性などの特性を持つ薄膜を形成する。その後、これらの薄膜は電子部品として封止処理が施される。
最終製品の応用段階では、封止された電子部品を使用して、最終消費者向けの製品を製造する。
3, 中国における溅射靶材産業の細分市場分析
溅射靶材の下流応用分野は広範にわたり、フラットパネルディスプレイ（FPD）、半導体集積回路、新エネルギー電池、太陽電池などの戦略的新興産業に加え、ガラスコーティング、装飾用コーティング、工具コーティングといった比較的伝統的な産業にも広く使用されている。
中でもフラットパネルディスプレイ分野は、溅射靶材の市場規模が最も大きく、全体の中で最も高い割合を占めている。これに次いで、情報記録媒体、太陽電池、半導体集積回路分野が主要な市場となっている。
以下に、各細分市場における溅射靶材の市場発展状況を示す。
（1）フラットパネルディスプレイ用溅射靶材の市場動向
フラットパネルディスプレイ（FPD）産業のサプライチェーンは、以下のような構成となっている。
上流：設備製造、原材料、電子部品産業
中流：ディスプレイパネル、タッチパネルなどの電子部品・モジュールの製造
下流：テレビ、モニター、ノートパソコン、タブレット、スマートフォンなどの最終製品
近年、中国国内のフラットパネルディスプレイ用溅射靶材市場は、以下の要因により急速に成長している。
世界的なディスプレイパネルの出荷面積の増加
ディスプレイ産業の生産拠点の中国への移行
ディスプレイパネルメーカーの調達における国産品への置き換え（輸入代替）の進展
市場データによると、2017年から2020年にかけて、中国におけるフラットパネルディスプレイ用溅射靶材市場は、93億元から150億元へと拡大した。
また、2021年から2023年の市場規模は、それぞれ177億元、209億元、246億元と継続的に成長している。
今後も市場の成長は続くと予測され、2026年には395億元に達する見込みである。
さらに、ディスプレイパネル製造における各種溅射靶材の使用状況や、ディスプレイパネルにおける銅プロセス技術の進展を踏まえた推計によれば、フラットパネルディスプレイ用溅射靶材市場のうち、銅靶（銅ターゲット）が占める割合は約20%とされる。
この割合を基に試算すると、2023年の中国におけるフラットパネルディスプレイ用銅靶の市場規模は約49.20億元と推定される。
（2）半導体集積回路用溅射靶材の市場動向
半導体集積回路産業のサプライチェーンは、チップ設計、ウェハ製造、パッケージング・テスト、半導体材料、半導体製造装置、EDA（電子設計自動化）ツール、IPライセンスなどのプロセスで構成されている。
このうち、半導体集積回路分野における溅射靶材の主な用途は、ウェハ製造およびチップパッケージング工程である。
半導体集積回路用溅射靶材は種類が多岐にわたり、需要量も大きい。統計によると、溅射靶材は世界の半導体製造材料およびパッケージング・テスト材料市場において、それぞれ約3%のシェアを占めている。
半導体産業の急速な発展に伴い、中国の半導体集積回路用溅射靶材市場は今後も高速成長を維持する見込みである。2017年から2023年にかけて、中国の半導体集積回路用溅射靶材市場規模は14億元から23億元へと拡大し、年平均成長率（CAGR）は8.63%となっている。
今後も市場規模は安定的な成長を続け、2026年には33億元に達すると予測されている。
（3）新エネルギー電池用溅射靶材の市場動向
新エネルギー電池は、新エネルギー産業のサプライチェーンにおいて中流に位置する重要なプロセスであり、産業全体の中核を成す分野である。
例えばリチウムイオン電池の場合、上流には正極材料、負極材料、銅箔、アルミ箔、セパレーター（隔膜）、電解液などの材料が含まれる。これらの材料が組み合わさり電池セル（セルユニット）を構成し、さらにバッテリーマネジメントシステム（BMS）および各種部品とともにPack封装を施すことで、リチウムイオンバッテリーパックが完成する。
最終的に、リチウムイオン電池は新エネルギー車（EV）、3Cデジタル製品（コンピュータ・通信機器・家電）、蓄電システム（ESS）、電動自転車などの分野で広く応用されている。
（4）太陽電池用溅射靶材の市場動向
太陽光発電（PV）産業のサプライチェーンは、シリコン原料、シリコンウエハ、太陽電池、モジュール、太陽光発電システムの5つのプロセスで構成されている。その中でも、太陽電池は光電効果を利用して光エネルギーを直接電気エネルギーに変換することができ、太陽光発電産業の中核を担う重要なプロセスである。
太陽光発電は、再生可能エネルギーの重要な構成要素であり、中国の今後のエネルギー政策の主要な発展方向とされている。累積導入容量の増加に伴い、中国の太陽電池用溅射靶材市場も引き続き急成長が見込まれる。
中商産業研究院の統計によると、2017年から2023年にかけて、中国の太陽電池用溅射靶材市場規模は18億元から52億元へと拡大し、年平均成長率（CAGR）は19.34%に達している。
今後、太陽電池用溅射靶材市場は急速な成長フェーズに突入し、2026年には市場規模が83億元に達すると予測されている。
（5）その他の分野
ガラスコーティング
溅射靶材は、ガラスコーティング分野において主に低放射（Low-E）ガラスの製造に使用される。これは、ガラス表面に多層の金属またはその他の化合物からなる薄膜をコーティングすることで、省エネルギー、光制御、装飾などの効果を実現するものである。主な応用分野として、建築、住宅内装、自動車、鏡製造などがあり、中でも建築分野での使用量が最も多い。
統計によると、建築用ガラス窓のエネルギー消費は、建築物全体のエネルギー消費の23%を占めており、建築省エネの重要な要素の一つとされる。2020年時点で、中国国内における低放射ガラスの普及率は12%であるのに対し、ドイツや韓国などの先進国では90%以上と大きな差がある。今後、中国国内でも建築分野における低放射ガラスの普及率が継続的に向上すると予測される。
近年、政策の支援や省エネ・環境保護需要の高まりに伴い、ほぼすべての大手ガラス加工企業が低放射ガラスの生産ラインを急速に増設しており、これにより溅射靶材をはじめとする上流の重要原材料市場も急速に拡大している。
装飾コーティング
溅射靶材は、装飾コーティング分野において、スマートフォン、腕時計、眼鏡などの製品の表面コーティングに使用される。装飾コーティングは製品の色彩を美しくするだけでなく、耐摩耗性や耐腐食性も向上させるため、最終消費者の体験や満足度に直接影響を与える。
装飾コーティングの下流市場の中でも、スマートフォンなどの消費電子製品は技術革新のサイクルが最も短い分野であり、メーカー間の競争は、従来の機能性向上だけでなく、性能、美観、ユーザー体験など多方面に及んでいる。そのため、最先端の表面処理技術が消費電子製品に積極的に導入されている。
近年、生活水準の向上に伴い、真空スパッタリングコーティングが最も一般的な表面処理技術の一つとなりつつある。プラスチック、ガラス、セラミック、ステンレススチール製のフレームなど、さまざまな素材に対して真空スパッタリングコーティングが採用されており、これにより装飾コーティング用溅射靶材の需要も拡大している。
工具コーティング
溅射靶材は、工具コーティング分野において、工具の表面コーティングに使用される。このコーティングは化学的バリアおよび熱バリアとして機能し、加工時の工具本体の摩耗を効果的に低減することで、工具の寿命を大幅に延ばし、加工部品の品質向上にも寄与する。
現在、世界の工具コーティング市場は主に欧米、日本などの先進国に集中しており、これらの国では機械加工用工具のコーティング比率が90%以上に達している。
中国国内市場では、製造業の生産方針が「低コスト労働力に依存するモデル」から「加工技術の向上による効率改善モデル」へと転換しつつあり、加えて、工作機械市場のCNC化（数値制御化）へのシフトが進んでいる。この流れにより、中国国内における工具コーティングの普及率が上昇しており、それに伴い工具コーティング用溅射靶材の需要も今後継続的に拡大する見込みである。
五、中国の溅射靶材主要企業分析
国内のフラットパネルディスプレイおよび半導体集積回路産業の急速な発展に伴い、下流産業の生産拠点が次第に中国国内へ移行し、それにより国内の溅射靶材産業も急成長している。
これにより、中国の溅射靶材産業は、単なる規模の拡大から、輸入代替による構造的な成長へと移行している。
寧波江豊電子（KFMIC）、阿石創（Acetron）、有研新材（GRINM Advanced Materials）、隆華科技（Longhua）、广东欧莱新材（OMAT）などの市場競争力の高い国内靶材企業は、フラットパネルディスプレイ、半導体集積回路などの国内外の有名企業のサプライチェーンに参入することに成功した。
これにより、海外メーカーの市場シェアを侵食し、輸入代替を推進するとともに、一部製品の輸出も実現している。また、国内の重要産業における上流の主要原材料の供給安定性と自主可控（自主制御）を確保する役割を果たしている。
1, 寧波江豊電子（KFMIC）
江丰電子は2005年に設立され、浙江省寧波市に本社を構える。2017年に深セン証券取引所に上場した。
同社は超高純度金属溅射靶材および半導体精密部品の研究開発、製造、販売を主業としており、製品は超大規模集積回路（VLSI）チップ、フラットパネルディスプレイ、太陽電池などの分野に広く応用されている。
江丰電子の2023年の年次報告書によると、同年の売上高は26.02億元で、前年比11.89%増加した。一方で、親会社株主に帰属する純利益は2.55億元で、前年同期比3.35%減少した。
そのうち、超高純度靶材事業の売上高は16.73億元で、前年比3.79%増加している。
2, 阿石創（Acetron）
阿石創は2002年に設立され、福建省福州市に本社を構える。2017年に深セン証券取引所に上場した。
同社は各種PVD（物理蒸着）成膜材料の研究開発、製造、販売を主業としており、主要製品には溅射靶材（スパッタリングターゲット）および蒸着材料が含まれる。製品はフラットパネルディスプレイ、光学・光通信、省エネガラスなどの分野で広く使用されている。
阿石創の2023年の年次報告書によると、同年の売上高は9.58億元で、親会社株主に帰属する純利益は1227万元であった。
そのうち、溅射靶材事業の売上高は5.21億元となっている。
3, 隆華科技（Longhua）
隆華科技は1995年に設立され、河南省洛陽市に本社を構える。2011年に深セン証券取引所に上場した。
同社の事業領域は、電子新材料、高分子複合材料、省エネルギー・環境保護事業にわたり、製品は磁気浮上式列車（リニアモーターカー）、航空宇宙、石油、化学工業、産業用水処理、都市水処理、都市鉱山資源処理、排水処理、鉱物浮選などの分野で広く使用されている。
隆華科技の2023年の年次報告書によると、同年の売上高は24.67億元で、親会社株主に帰属する純利益は1.27億元であった。
そのうち、電子新材料事業の売上高は4.73億元となっている。
4, 有研新材（GRINM Advanced Materials）
有研新材は1999年に設立され、北京有色金属研究総院が単独で発起し、公募方式で設立された株式会社である。1999年3月に設立され、上海証券取引所に上場した。
同社はレアアース材料、微光電子用薄膜材料、生体医療材料、レアメタルおよび貴金属、赤外線光学・光電子材料などの新材料の研究開発および製造を主業としており、中国の有色金属新材料産業の中核企業である。
有研新材の2023年の年次報告書によると、同年の売上高は108.22億元で、親会社株主に帰属する純利益は2.26億元であった。
5, 欧莱新材（OMAT）
欧莱新材は2010年に設立され、広東省韶関市に本社を構える。2024年に上海証券取引所の科創板（STAR Market）に上場した。
同社は高性能溅射靶材の研究開発、製造、販売を主業としており、主要製品にはさまざまなサイズや形状の銅靶（Cuターゲット）、アルミ靶（Alターゲット）、モリブデンおよびモリブデン合金靶（Moターゲット）、ITO靶（酸化インジウムスズターゲット）などが含まれる。
同社の製品は半導体ディスプレイ、タッチスクリーン、建築用ガラス、装飾コーティング、集積回路（IC）パッケージング、新エネルギー電池、太陽電池などの分野で広く使用されており、各種薄膜の工業的製造における重要な材料である。
欧莱新材の2023年の年次報告書によると、同年の売上高は4.76億元で、親会社株主に帰属する純利益は0.49億元であった。
六. 中国の溅射靶材産業が直面する課題
1, 材料の輸入依存が安定成長を阻害
溅射靶材は、各種薄膜の工業的製造における重要な材料であり、その性能が最終製品の品質、寿命、性能を直接左右する。特に半導体集積回路、フラットパネルディスプレイ、太陽電池などの下流産業では、溅射靶材に対する純度要件が極めて高い。
現在、高性能溅射靶材の製造に必要な一部の高純度金属材料は、ほぼ輸入に依存している。このような高純度金属材料は、世界でも限られた一部の有名メーカーしか、純度、品質、安定性の要件を満たすことができない。
また、国際的な貿易摩擦の激化や、新型コロナウイルスの影響などにより、中国の高純度金属材料の輸入依存は、溅射靶材産業の健全かつ安定した発展にとって不利な要因となっている。
2, 技術人材の不足が技術革新の発展を制約
高性能溅射靶材産業は、資本と技術を集約した産業であり、専門性が高く、技術的要求も厳しい。特にコア技術のブレークスルーや生産プロセスの革新は、安定した技術チームとトップレベルの技術人材に依存しており、技術開発者には専門性、革新性、豊富な経験が求められる。
しかし、中国の溅射靶材産業は発展の歴史が浅く、技術レベルもまだ低い。さらに、専門技術者の育成には長い時間を要するため、高度な専門知識を持つ複合型人材の不足が深刻な問題となっている。
特に、下流産業の急速な発展と市場需要の拡大に伴い、企業の研究開発・技術革新能力に対する要求はますます高まっている。そのため、高度な専門知識を備えた複合型技術者の不足が、溅射靶材産業の持続的発展にとって大きな課題となっている。
七、中国の溅射靶材産業の市場展望と予測分析
1, 国家産業政策の強力な支援が、産業の持続的な急成長を促進
2016年より、中国の工業情報化部（工信部）、国家発展改革委員会（国家発改委）、科学技術部（科技部）、財政部が共同で《新材料産業発展ガイドライン》を発表し、新世代情報技術産業向け材料の発展を促進し、大規模集積回路材料の制約を克服する方針を明確にした。
また、新材料の量産プロセスの最適化を加速し、新型ディスプレイなどの分野での量産適用を推進するとしている。その後、高性能溅射靶材は、以下のような重要な政策文書に次々と盛り込まれた。
《重点新材料初回応用デモンストレーション指導目録》
《「十四五（第14次五カ年計画）」原材料産業発展計画》
これらの政策は、国家レベルで高性能溅射靶材産業の発展を重視し、強力に支援する姿勢を示すものであり、業界の成長にとって良好な政策環境を提供している。この支援により、重要技術分野へのブレークスルーが加速し、中国の戦略的新興産業の発展を後押ししている。
2, 新型ディスプレイ技術の普及と終端応用シナリオの拡大が、業界の発展を促進
5G、半導体集積回路、インターネット、人工知能（AI）産業の急速な発展により、新型ディスプレイ技術は最も活発なイノベーション分野の一つとなっている。
近年、8K超高精細（UHD）、3Dディスプレイ、フレキシブルディスプレイ、透明ディスプレイなどの技術が著しく進歩し、従来のディスプレイ端末の概念を覆す技術革新が進行している。
特に、大画面半導体ディスプレイ分野では、5G通信技術の発展により、8K対応のスマートデバイスの普及が加速する見込みである。また、商業用ディスプレイやスマートホーム市場も拡大し、さらにスマート交通、スマート医療、スマートリテールといった分野で新たな応用が次々と生まれている。
フラットパネルディスプレイは、高性能溅射靶材産業における最も重要な下流市場の一つである。
市場の拡大、新技術の導入、新しい製造プロセスの進展に伴い、溅射靶材の適用範囲と応用シナリオがさらに広がることが期待される。これにより、業界全体の成長ポテンシャルも非常に大きい。
3, 新興下流市場の急成長が、産業の市場空間を拡大
高性能溅射靶材は、半導体、フラットパネルディスプレイ、情報ストレージ、マイクロエレクトロニクスなどの産業の発展とともに成長を遂げてきた。
上流・下流の企業による継続的な技術研究と革新により、業界の技術水準は向上し、新技術の産業化が加速している。これに伴い、溅射靶材の製品用途は拡大を続けている。
現在、溅射靶材の市場は装飾コーティング、工具コーティング、ガラスコーティングといった分野から、情報ストレージ、フラットパネルディスプレイ、半導体集積回路、太陽電池などの新興産業へと拡大している。市場需要は安定した成長を続けており、今後の発展が期待される。
また、磁控スパッタリング（Magnetron Sputtering）による真空成膜技術は、安定したコーティング特性、高い均一性、高密度な膜形成、強固な密着性といった優れた特性を持つため、溅射靶材の応用分野はさらに拡大していくと予想される。
具体的には、複合銅箔（CCL）、BIPV（建築一体型太陽光発電）、航空宇宙材料などの新興分野への応用が進むと見込まれる。
市場の将来展望
今後、新エネルギー電池、太陽光発電（PV）、航空宇宙などの新興下流市場が急速に発展する中で、磁控スパッタリング技術の優れた特性が活かされることにより、高性能溅射靶材の用途はますます多様化する。
これにより、溅射靶材産業の持続的な成長と技術進歩を支える広範な市場機会が生まれる。
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さらに詳しい情報については、中商産業研究院の発表する《中国溅射靶材産業市場前景および投資機会研究報告》を参照することができる。
また、中商産業研究院では、産業ビッグデータ、産業インテリジェンス、産業レポート、業界白書、フィージビリティスタディ（FS）レポート、調査評価、産業計画、産業パーク計画、産業チェーン投資誘致マップ、投資誘致ガイド、プロジェクト企画・プロモーション、産業投資誘致および展示会の企画・実施などのコンサルティングサービスも提供している。
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